显示器件的制造方法和显示器件

摘要

本发明提供显示器件及其制造方法，该制造方法包括：在基板上形成驱动元件；形成在与各驱动元件对应的位置处具有侧面为正向锥形的连接孔的平坦化膜；形成与多个有机发光元件分别对应的下部电极；在下部电极之间的区域中形成像素隔离绝缘膜；使用蒸发沉积掩模的蒸发沉积方法在下部电极上方形成包含发光层的有机层；以及在有机层上方形成上部电极。在形成下部电极时的步骤包括：形成下部电极材料膜；在下部电极材料膜上形成光致抗蚀剂膜；使用蒸发沉积掩模对光致抗蚀剂膜进行曝光，然后显影；和通过使用光致抗蚀剂膜作为掩模进行蚀刻，选择性地除去下部电极材料膜。本发明能减小下部电极或像素隔离绝缘膜与有机层之间的位置偏离，并能增大开口率。

主权项

一种具有多个有机发光元件的显示器件的制造方法，其包括如下步骤：在基板上形成与所述多个有机发光元件分别对应的驱动元件；形成一层以上的平坦化膜，所述一层以上的平坦化膜在与各所述驱动元件对应的位置处具有连接孔，所述连接孔的侧面为正向锥形，使得所述连接孔的直径从所述基板侧以圆锥形状或棱锥形状逐渐增加；在包含所述连接孔的区域中形成与所述多个有机发光元件分别对应的下部电极；在所述下部电极之间的区域中形成像素隔离绝缘膜；通过使用蒸发沉积掩模的蒸发沉积方法在所述下部电极上方形成包含发光层的有机层；以及在所述有机层上方形成上部电极，其中，形成所述下部电极的步骤包括如下步骤：形成下部电极材料膜；在所述下部电极材料膜上形成光致抗蚀剂膜；使用所述蒸发沉积掩模对所述光致抗蚀剂膜进行曝光，然后将所述光致抗蚀剂膜显影；和通过使用所述光致抗蚀剂膜作为掩模进行蚀刻，选择性地除去所述下部电极材料膜。