发明名称 一种对激光镀层进行处理的系统
摘要 本发明公开了一种对激光镀层进行处理的系统,包括第一脉冲激光器(1)和第二脉冲激光器(2)、第一衰减器(3)和第二衰减器(4)、第一电子快门(5)和第二电子快门(6)、第一扩束镜(7)和第二扩束镜(8)、反射镜(9)、合束器(10)、CCD实时观察系统(11)、光学振镜(12)、聚焦物镜(13)、反射镜(14),待处理样品基底(15)、电解池(16)、三维移动台(17)和延迟控制器(18)。本发明通过利用与待加工的材料的吸收特性匹配的脉冲和波长的激光束实现材料对激光热效应的充分吸收,取得理想的镀层处理结果。本发明适用于激光电镀、激光化学镀、激光刻蚀、激光微融覆的处理过程。
申请公布号 CN102925938A 申请公布日期 2013.02.13
申请号 CN201210342365.3 申请日期 2012.09.14
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 林学春;杨盈莹;赵树森;于海娟
分类号 C25D5/00(2006.01)I;C25D5/18(2006.01)I;C23C18/31(2006.01)I;C23C24/10(2006.01)I;B23K26/00(2006.01)I 主分类号 C25D5/00(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 任岩
主权项 一种对激光镀层进行处理的系统,其特征在于,包括:第一脉冲激光器(1)和第二脉冲激光器(2),用于提供进行激光电镀的第一激光脉冲和第二激光脉冲;第一衰减器(3)和第二衰减器(4),用于调整第一脉冲激光器(1)和第二脉冲激光器(2)的输出功率,防止损伤镀层处理材料;第一电子快门(5)和第二电子快门(6),用于分别控制第一激光脉冲与第二激光脉冲的通断和照射时间;第一扩束镜(7)和第二扩束镜(8),用于分别扩展第一脉冲激光器(1)和第二脉冲激光器(2)的激光束直径,减小激光束的发散角;反射镜(9)和合束器(10),该反射镜(9)通过合束器(10)将第一激光脉冲与第二激光脉冲汇为一路激光光束;CCD实时观察系统(11),用于实时观测待处理样品基底(15);光学振镜(12),用于移动激光光束的位置,控制激光光束的扫描速度;聚焦物镜(13)和反射镜(14),聚焦物镜(13)通过反射镜(14)将激光光束聚焦在待处理样品基底(15)的表面;电解池(16),用于放置电解液,待处理样品基底(15)放置在电解池16中并与三维移动台(17)连接;三维移动台(17),用于放置并调整待处理样品基底(15)的位置;和延迟控制器(18),连接于第一脉冲激光器(1)和第二脉冲激光器(2),控制第一脉冲激光器(1)发射的第一激光脉冲与第二激光脉冲激光器(2)发射的第二脉冲之间具有一个时间延迟。
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