曝光装置、浸液曝光装置、浸液曝光方法、浸液用光学系统及元件制造方法

摘要

为提供一种曝光装置，其能抑制供形成浸液区域用之液体的飞散，液体供应、回收用之配管类不会妨碍基板载台的移动，能以所要的图案精度来对基板进行曝光处理。;曝光装置EX，系将图案像透过投影光学系统PL投影于基板P上，以将该基板P曝光；其系具备：可移动之基板载台PST，系将该基板P保持于该投影光学系统PL上方；浸液单元100，系将投影光学系统PL与基板P间至少一部份以液体30填满；透过投影光学系统PL与液体30，将图案像投影于基板P上。