晶片乾燥装置

摘要

一种晶片乾燥装置，包括一乾燥室、一盖体、一吹气构件以及一支撑构件，其中乾燥室具有一第一底部，而盖体覆盖于乾燥室，且吹气构件配置于盖体，而支撑构件可动地配置于乾燥室内，且于晶片乾燥装置执行一乾燥过程时，支撑构件相对第一底部倾斜。