| 摘要 |
本发明旨在提供一种基板处理装置及涂布装置及涂布方法，以简易之构成在浮升平台上固持矩形之被处理基板为适于处理之一定姿态并稳定地将其浮升输送。;其中，第1(左侧)及第2(右侧)输送部84L、84R中之第1及第2固持部106L、106R包含：2个吸附垫108L、108R，分别以真空吸附力结合基板G之左侧二角隅之背面(底面)及右侧二角隅之背面(底面)；一对垫支持部110L、110R，在沿输送方向(X方向)隔着一定间隔之2处支持各吸附垫108L、108R并限制其铅直方向之移位；及一对垫致动器112L、112R，分别以独立之方式使此等一对垫支持部110L、110R昇降移动或昇降移位。 |
