曝光装置及元件制造方法

摘要

本发明之曝光装置，具有将光罩之像投影至载台所保持之基板W的投影光学系统，并具备用来在此投影光学系统与上述载台之间形成特定气体环境气氛的环境气氛形成机构70,71，其特征为：该环境气氛形成机构70,71具备缓冲部71a,71b，其能缓和该环境气氛形成机构70,71与该载台、或该基板W接触所产生的力量，抑制此力量传递至该投影光学系统PL。藉由此种构成，能防止载台或基板W与环境气氛形成机构70,71接触所产生的力量传至投影光学系统PL，而造成投影光学系统PL的损伤。