发明名称 光学薄膜之制造方法
摘要 本发明的目的系提供一种反射率低且抑制晃眼,耐擦伤性.防污性.抗静电性优异的光学薄膜,以及提供使用此等抗反射薄膜之偏光板或显示装置。;上述目的之解决方法系藉由一种光学薄膜、特别是抗反射薄膜、及使用它之偏光板以及影像显示装置而达成,其中该光学薄膜系为在支持体上涂设含有微粒子与黏结剂之组成物,使薄膜层形成而构成之光学薄膜,其特征系相对于该薄膜层全层中的平均粒子填充率(A),与支持体成相反侧之上层侧30%膜厚中的平均粒子填充率(B)的比率之SP值[(B/A)×100]]为90%以下。
申请公布号 TWI385420 申请公布日期 2013.02.11
申请号 TW094117358 申请日期 2005.05.27
申请人 富士软片股份有限公司 日本 发明人 米山博之;井上克己;池田显;平野聪美
分类号 G02B5/30;G02F1/11 主分类号 G02B5/30
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项
地址 日本
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