物理气相沉积装置及其方法

摘要

一种物理气相沉积装置及其方法，该物理气相装置包含一真空腔体、一基板、一靶材、一射频感应器、一离子偏折器及一电场产生器。该基板及该靶材分别位于该真空腔体相对两内侧。该射频感应器系设置于该基板及该靶材之间。该离子偏折器系位于该射频感应器及该基板之间。该电场产生器设置于该基板之一侧，且使该基板位于该离子偏折器及电场产生器之间。该物理气相沉积方法系提供一电位于该离子偏折器上，使接近该离子偏折器之一带电离子会受到该电位的斥力作用而偏折通过该离子偏折器并沉积于该基板上。