在多晶硅铸锭用坩埚的内表面上形成涂层的方法

摘要

本发明涉及一种在多晶硅铸锭用坩埚内表面上形成涂层的方法，特别是在无需高温烧结的条件下在多晶硅铸锭用坩埚内表面上形成涂层的方法。本发明还涉及包含使用所述方法制备的涂层的多晶硅铸锭用坩埚。由于根据本发明所述的在多晶硅铸锭用坩埚内表面上形成涂层的方法无需高温烧结条件，所以可以节省大量的能源，并且使用根据本发明的坩埚制备的多晶硅铸锭的有效重量比高于使用常规方法制备的坩埚制备的铸锭，这使得生产成本降低，生产效率提高。

主权项

一种在多晶硅铸锭用坩埚的内表面上形成涂层的方法，该方法包括如下步骤：1)将坩埚在空气中加热并保温在80‑100℃，2)将涂料组合物通过涂刷或滚刷的方法涂布在坩埚的内表面上，使干燥后的涂层厚度为200μm‑1000μm；3)在预先确定的硅熔液液面位置±50mm范围内进一步涂布涂料组合物，使干燥后的涂层总厚度为在步骤2)中制备的涂层的干燥后厚度的1.1～2倍；4)使涂布后的坩埚在50～350℃干燥1～3小时；其中，所述涂料组合物包含：10‑60wt％氮化硅，和作为溶剂的水；所述硅熔液液面位置是指在坩埚中的硅原料完全熔化后，硅熔液的自由液面所在的位置。