发明名称 处理腔气密性检测装置及检测方法
摘要 一种处理腔气密性检测装置及检测方法,所述处理腔气密性检测装置在所述处理腔壳体的开口上放置有一块平面密封板,所述平面密封板的形状、尺寸与处理腔壳体的开口的形状、尺寸相适应,使得所述平面密封板和所述处理腔壳体形成密封腔体。通过对所述密封腔体的气密性进行检测,即可判断出泄露位置是位于处理腔壳体位置,还是位于处理腔顶盖位置或位于处理腔壳体和处理腔顶盖相接触的位置,从而最多可以节省近一半的排查时间。所述检测方法简单方便,可以快速地判断出泄露位置是否位于处理腔壳体位置,使得最终的排除故障的时间较短,可以避免用户因为半导体处理设备处于维修状态不能生产从而受到较大的损失。
申请公布号 CN102914412A 申请公布日期 2013.02.06
申请号 CN201210396294.5 申请日期 2012.10.17
申请人 上海宏力半导体制造有限公司 发明人 吴敏;王旭东
分类号 G01M3/26(2006.01)I 主分类号 G01M3/26(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 骆苏华
主权项 一种处理腔气密性检测装置,其特征在于,包括:处理腔壳体;处于开启状态的与处理腔壳体对应的处理腔顶盖;位于所述处理腔壳体的开口上的平面密封板,所述平面密封板的形状、尺寸与处理腔壳体的开口的形状、尺寸相适应,使得所述平面密封板和所述处理腔壳体形成密封腔体;对所述密封腔体的气压进行检测的气压监测单元;与密封腔体对应的抽气单元;与所述气压监测单元、抽气单元相连接的控制单元,所述抽气单元对所述密封腔体进行抽气后,利用气压监测单元、抽气单元和控制单元判断所述封闭腔体的气密性是否合格,从而判断出泄露位置是否位于处理腔壳体位置。
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