用于离子束均匀性的栅格透明度和栅格孔图案控制

摘要

一种用于改变离子束栅格中的孔位置或尺寸或两者的设计方法，包括确定待被更改的控制栅格；获得用于栅格图案的变化系数；以及利用该变化系数来产生新的栅格图案。变化系数是孔位置变化系数或孔直径变化系数中的一个或两个。该设计方法还包括离子束栅格，所述离子束栅格具有由控制栅格孔位置或尺寸或两者的变化系数的改变所限定的孔位置或尺寸或两者的特征。

主权项

一种用于产生用于束栅格的孔的改变图案的设计方法，包括：确定待被更改的用于束栅格的孔的初始图案；获得用于所述束栅格的孔的所述初始图案的变化系数；基于孔的所述初始图案，利用所述变化系数来产生用于所述束栅格的孔的所述改变图案。