| 发明名称 | 蚀刻液及形成图案化多层金属层的方法 | ||
| 摘要 | 一种蚀刻液及形成图案化多层金属层的方法，该蚀刻液用以蚀刻形成图案化多层金属层。蚀刻液包括二价铜离子、氨水、磷酸铵溶液与有机铵盐。一种形成图案化多层金属层的方法也被提出。首先，提供前述蚀刻液。接着，形成多层金属层于基板上。之后，以蚀刻液蚀刻多层金属层以形成图案化多层金属层。本发明的蚀刻液具有良好的稳定性且在使用过程中不会产生氧气。另外，使用本发明的蚀刻液来形成图案化的多层金属层时，蚀刻液对于多层金属层之间蚀刻率差异小。 | ||
| 申请公布号 | CN102912350A | 申请公布日期 | 2013.02.06 |
| 申请号 | CN201210384822.5 | 申请日期 | 2012.10.11 |
| 申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 林舒瑶;曹智强;吕婉婷 |
| 分类号 | C23F1/18(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H05K3/06(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 梁挥;鲍俊萍 |
| 主权项 | 一种蚀刻液，用以蚀刻形成一图案化多层金属层，其特征在于，该蚀刻液包括二价铜离子、氨水、磷酸铵溶液与有机铵盐。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路1号 | ||