发明名称 发射辐射半导体器件
摘要 发射辐射的半导体器件,具有包含发射辐射的有源层(5)的多层结构(4)和具有用于透射辐射的窗口(1),此窗口只安置在多层结构(4)的背离半导体器件主发射方向的一侧且具有至少一个侧壁(10),此侧壁具有向垂直于多层结构的半导体本体中轴而倾斜、凹入或阶梯形延伸的第一侧壁部分(10a),从多层结构(4)进一步向背面延伸方向看,此第一侧壁部分过渡到垂直于多层结构的、也即平行于所述中轴的第二侧壁部分(10b),其中窗口(1)的包括第二侧壁部分(10b)的部分构成半导体器件的装配底座,所述多层结构(4)至少部分地配置了具有大量开口(14)的接触面(6)。由此提供一种具有改进效率的发射辐射的半导体器件。
申请公布号 CN101604723B 申请公布日期 2013.02.06
申请号 CN200910148946.1 申请日期 2001.02.15
申请人 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 发明人 D·艾斯塞特;V·赫尔勒;F·科赫恩;M·蒙德布劳德-范格罗;U·斯特劳斯;U·泽赫恩德;J·鮑尔;U·杰科布;E·尼斯奇尔;N·林德;R·塞德梅尔
分类号 H01L33/00(2006.01)I 主分类号 H01L33/00(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 刘春元
主权项 发射辐射的半导体器件,具有包含发射辐射的有源层(5)的多层结构(4)和透过辐射的窗口(1),该透过辐射的窗口(1)具有第一主面(2)和位于此第一主面对面的第二主面(3)并且该透过辐射的窗口(1)以第一主面(2)与多层结构(4)邻接,其中为形成相对于第一主面(2)倾斜延伸的辐射耦合输出面,所述窗口(1)具有至少一个空隙(8),其特征在于,所述多层结构(4)至少部分地配置了具有大量开口(14)的接触面(6)。
地址 德国雷根斯堡