发明名称 |
顶板以及等离子体处理装置 |
摘要 |
公开了一种顶板,设置在可抽真空的处理容器的顶部,可使从排列设置的平面天线构件的狭缝中放射出的微波透过到处理容器内,具有在顶板的面对处理容器内的一面放射状地设置的多个突起部。 |
申请公布号 |
CN101548364B |
申请公布日期 |
2013.02.06 |
申请号 |
CN200880000772.8 |
申请日期 |
2008.08.20 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
田才忠;西塚哲也;石桥清隆;野沢俊久 |
分类号 |
H01L21/205(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;C23C16/511(2006.01)I;H05H1/46(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/205(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
李伟;舒艳君 |
主权项 |
一种顶板,设置在可抽真空的处理容器的顶部,能够使从排列设置的平面天线构件的狭缝中放射出的微波透过到上述处理容器内,其特征在于,具有在上述顶板的面对上述处理容器内的一面放射状设置的多个突起部,按照在上述顶板的设置了突起部的部分中传播的微波、和在上述顶板的未设置突起部的部分中传播的微波,所传播的微波的传播模式的种类的数量不同的方式,分别对上述顶板的设置了突起部的部分的厚度和上述顶板的未设置突起部的部分的厚度进行设定,上述狭缝的对在上述平面天线构件中被沿着同心圆排列,上述突起部的数量与被排列成同心圆状的上述狭缝的对中的在内侧的同一圆上所排列的上述狭缝的对的数量相等。 |
地址 |
日本东京都 |