发明名称 | 粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置 | ||
摘要 | 本发明的目的在于提供一种使用多组扫描电磁铁的、精度较高的、能进行从低速到高速的高自由度的带电粒子束扫描的粒子射线照射装置。粒子射线照射装置使所射入的带电粒子束沿与带电粒子束的前进方向相垂直的X方向及Y方向这两个方向的目标轨道进行扫描,以对照射对象进行照射,上述粒子射线照射装置包括多组使带电粒子束在两个方向上进行扫描的扫描电磁铁组,目标轨道由取决于与时间相对应的目标照射位置的时间序列目标轨道数据所给出,基于对时间序列目标轨道数据进行分频而得的多个数据,来生成发送给多组扫描电磁铁的各扫描电磁铁的指令值。 | ||
申请公布号 | CN102917755A | 申请公布日期 | 2013.02.06 |
申请号 | CN201180026450.2 | 申请日期 | 2011.04.13 |
申请人 | 三菱电机株式会社 | 发明人 | 岩田高明;蒲越虎 |
分类号 | A61N5/10(2006.01)I | 主分类号 | A61N5/10(2006.01)I |
代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 张鑫 |
主权项 | 一种粒子射线照射装置,该粒子射线照射装置使所射入的带电粒子束沿与所述带电粒子束的前进方向相垂直的X方向及Y方向这两个方向的目标轨道进行扫描,以对照射对象进行照射,其特征在于,所述粒子射线照射装置包括多组使所述带电粒子束在所述两个方向上进行扫描的扫描电磁铁组,所述目标轨道由取决于与时间相对应的目标照射位置的时间序列目标轨道数据所给出,基于对所述时间序列目标轨道数据进行分频而得的多个数据,来生成发送给所述多组扫描电磁铁的各扫描电磁铁的指令值。 | ||
地址 | 日本东京 |