| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于浅槽隔离的化学机械抛光液。该抛光液至少含有含有一种二氧化铈的磨料，一种有机膦酸，一种pH调节剂，和载体水，具有较高的高密度等离子体二氧化硅和较低的氮化硅的去除速率，抛光后的表面平坦光洁，稳定性好，适用于浅槽隔离的化学机械平坦化。 | ||
| 申请公布号 | CN102911605A | 申请公布日期 | 2013.02.06 |
| 申请号 | CN201110223455.6 | 申请日期 | 2011.08.05 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 宋伟红;姚颖;孙展龙 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，包括：一种二氧化铈的磨料，一种有机膦酸，一种pH调节剂，和载体水。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室 | ||