发明名称 |
改进氧化锌单晶质量的处理方法 |
摘要 |
一种改进氧化锌单晶质量的处理方法,该方法主要由切割、退火、抛光、清洗等几个主要步骤组成。本发明可以得到结构完整、单相性好的氧化锌衬底基片,可以满足ZnO同质外延薄膜的生长需要。 |
申请公布号 |
CN102912447A |
申请公布日期 |
2013.02.06 |
申请号 |
CN201210327762.3 |
申请日期 |
2012.09.06 |
申请人 |
中国科学院上海光学精密机械研究所 |
发明人 |
陈光珠;杭寅;陈喆;张连翰;何明珠;王军;宁凯杰;张沛雄;王向水 |
分类号 |
C30B33/02(2006.01)I;C30B29/16(2006.01)I;H01L21/324(2006.01)I |
主分类号 |
C30B33/02(2006.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 31213 |
代理人 |
张泽纯 |
主权项 |
一种改进氧化锌单晶质量的处理方法,其特征在于该方法包括下列步骤:①将氧化锌晶体切割成所需大小的片状,细磨处理,使表面无刀痕,称为氧化锌研磨片;②在铂金坩锅底部垫纯度为99.9%~99.999%的ZnO粉末,粉末颗粒度为20~80μm,将所述的氧化锌研磨片平放在所述的ZnO粉末上;该铂金坩锅用烧结的氧化锌陶瓷板盖严,该氧化锌陶瓷板的纯度为99.9%~99.999%,厚度5~10mm;然后将所述的铂金坩锅放置在箱式马弗炉中进行退火;③退火过程:以5~10℃/min的速率升温至1100~1300℃,恒温180~300min,然后以5~10℃/min的速率降温至200~300℃,再关闭电源自然冷却到室温,取出后称为退火氧化锌研磨片;④对所述的退火氧化锌研磨片进行机械抛光,要求没有划痕,粗糙度<10nm,化学抛光,要求粗糙度≤0.5nm、平整度≤5μm,并清洗干净,洁净度达到百级,获得氧化锌单晶片最后用超净袋封装。 |
地址 |
201800 上海市嘉定区800-211邮政信箱 |