发明名称 |
硅铸锭用坩埚及其内侧涂层的制备方法 |
摘要 |
本实用新型提供一种硅铸锭用坩埚,包括锅壁及形成于所述锅壁内侧并收容铸锭硅料的容腔,所述锅壁内表面上设有氮化硅涂层,所述锅壁内表面还设有一介于所述氮化硅涂层和锅壁内表面之间的氮化硼涂层。与现有技术相比,本实用新型所述的坩埚通过在内壁面设置双涂层结构,使得其在隔离熔硅方面更有效果,还可大幅降低生产成本。 |
申请公布号 |
CN202717875U |
申请公布日期 |
2013.02.06 |
申请号 |
CN201220097627.X |
申请日期 |
2012.03.15 |
申请人 |
阿特斯(中国)投资有限公司;阿特斯光伏电力(洛阳)有限公司;苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 |
发明人 |
李飞龙;许涛;翟传鑫 |
分类号 |
C30B28/06(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I;C23C24/00(2006.01)I;B32B9/00(2006.01)I |
主分类号 |
C30B28/06(2006.01)I |
代理机构 |
苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 |
代理人 |
杨林洁 |
主权项 |
一种硅铸锭用坩埚,包括锅壁及形成于所述锅壁内侧并收容铸锭硅料的容腔,所述锅壁内表面上设有氮化硅涂层,其特征在于:所述锅壁内表面还设有一介于所述氮化硅涂层和锅壁内表面之间的氮化硼涂层。 |
地址 |
215000 江苏省苏州市苏州高新技术产业开发区鹿山路199号 |