发明名称 电阻式触摸屏用氧化铟锡膜的制备设备
摘要 一种电阻式触摸屏用氧化铟锡膜的制备设备,用于在柔性基片上形成结晶化的氧化铟锡膜,包括用于在柔性基片上形成氧化铟锡膜的镀膜装置和与镀膜装置相邻的表面改性装置。表面改性装置包括壳体和多个紫外线灯管。壳体具有一充有含氧气体的内腔,形成有所述氧化铟锡膜的柔性基片置于内腔内;用于照射柔性基片使氧化铟锡膜结晶化的多个紫外线灯管间隔设置于内腔内,且与柔性基片形成有氧化铟锡膜的一面相对设置。上述电阻式触摸屏用氧化铟锡膜的制备装置能够制备出具有较高划线寿命的电阻式触摸屏用氧化铟锡膜。
申请公布号 CN202717841U 申请公布日期 2013.02.06
申请号 CN201220351834.3 申请日期 2012.07.19
申请人 深圳南玻显示器件科技有限公司 发明人 王学雷;夏国涛;柳锡运;李章国;王春平;王战娥
分类号 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人 邓云鹏
主权项 一种电阻式触摸屏用氧化铟锡膜的制备设备,用于在柔性基片上形成结晶化的氧化铟锡膜,其特征在于,包括:用于在所述柔性基片上形成所述氧化铟锡膜的镀膜装置;及与所述镀膜装置相邻的表面改性装置,包括:壳体,具有一充有含氧气体的内腔,形成有所述氧化铟锡膜的柔性基片置于所述内腔内;及用于照射柔性基片使所述氧化铟锡膜结晶化的多个紫外线灯管,间隔设置于所述内腔内,且与所述柔性基片形成有所述氧化铟锡膜的一面相对设置。
地址 518000 广东省深圳市蛇口沿山路33号南玻工业大厦