发明名称 维护装置及喷出装置
摘要 本发明涉及维护装置及喷出装置。本发明提供一种以在头的下方移动且能进行喷出口的清扫和检查的方式构成的维护装置及具有维护装置的喷出装置。本发明的维护装置(10)沿喷出装置(70)的主导轨(72)移动,该喷出装置(70)是使基板(95)沿主导轨(72)移动,并通过头保持部(80)的下方,从多个头(81)的喷出口(82)使喷出液的液滴喷出,并命中到基板(95)。维护装置(10)具有:载置于主导轨(72)上的第一移动台(15a);配置于第一移动台(15a)上的载置台(19);载置于载置台(19)上的检查装置(20)和清扫装置(30)。通过使第一移动台(15a)沿主导轨(72)移动到头保持部(80)的下方,然后,通过使载置台(19)在第一移动台(15a)上移动,使清扫装置(30)配置于各头(81)的正下方,进而能除去喷出口(82)的附着物,或者,使检查装置(20)的摄像机的焦点配置于各喷出口(82)的正下方,并对喷出液的液滴进行摄影,进而能检查喷出口(82)。
申请公布号 CN101927608B 申请公布日期 2013.02.06
申请号 CN201010208492.5 申请日期 2010.06.18
申请人 株式会社爱发科 发明人 井上祐也;滑川巧;马场惠;羽根功二;前川原博实
分类号 B41J2/165(2006.01)I 主分类号 B41J2/165(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 李娜;王忠忠
主权项 一种维护装置,沿喷出装置的主导轨移动,所述喷出装置为,将载置基板的基板载置台载置于水平固定的所述主导轨上,使所述基板载置台沿所述主导轨移动,并通过头保持部的下方,从设置于所述头保持部的多个头的喷出口,使喷出液的液滴喷出,并命中到所述基板载置台上的基板,其特征在于,该维护装置具有:载置于所述主导轨上的第一移动台;使所述第一移动台沿所述主导轨移动的主移动装置;配置于所述第一移动台上的载置台;使所述载置台在所述第一移动台上移动的副移动机构;以及载置于所述载置台上的检查装置,所述检查装置具有:向测定对象物照射照明光的照明装置;以及对照射了所述照明光的所述测定对象物进行摄影的摄影装置,当使所述第一移动台移动到所述头保持部的下方并静止,在所述第一移动台静止的状态下,使所述载置台在所述第一移动台上移动,并使所述摄影装置的焦点配置于从所述头的各所述喷出口喷出的所述液滴的飞行路径上时,所述照明装置从摄影的所述液滴的飞行路径的侧方,向所述液滴照射所述照明光,所述摄影装置在向摄影的所述液滴照射的所述照明光入射的位置进行摄影。
地址 日本神奈川县