| 摘要 |
[课题]在用以在基板连续多次形成光阻图案之涂布显像装置中，防止基板之微粒污染。;[解决手段]以具备有控制部和基板侧面拨水模组之方式，构成涂布显像装置，该控制部系控制基板搬运手段及各模组之动作，使对基板，执行在拨水模组至少对侧面部执行拨水处理之步骤及在涂布模组对全面执行第1光阻之步骤之一方及另一方，又实行在曝光装置执行第1浸润式曝光之后在显像模组执行第1显像之步骤，之后在涂布模组对全面执行第2光阻涂布之步骤，又于在上述曝光装置执行第2浸润式曝光之后在显像模组执行第2显像之步骤，该基板侧面拨水模组系用以在从第1显像结束后至执行第2浸润式曝光为止之期间对基板之侧面部执行拨水处理。 |
