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发明名称
具备有机多介电层之记忆体元件
摘要
本发明系揭露一种具备有机多介电层之记忆体元件,其系包含一基板、一闸极电极、一多介电层、一半导体通道层、一汲极电极及一源极电极。其中,闸极电极形成于基板上,多介电层形成于闸极电极上,半导体通道层、一汲极电极及一源极电极皆形成于多介电层上,且汲极电极与源极电极同时与半导体通道层电性接触。多介电层主要材料为具备氢氧基之有机高分子聚合物,其用以打开半导体通道层并捕捉电荷使元件具有记忆效应,同时多介电层中部分材料可降低漏电流。
申请公布号
TWI384616
申请公布日期
2013.02.01
申请号
TW098130835
申请日期
2009.09.11
申请人
国立成功大学 台南市东区大学路1号
发明人
黄俊元;陈应志;黄琮训;郑樵阳;苏炎坤
分类号
H01L27/28;H01L51/00
主分类号
H01L27/28
代理机构
代理人
李国光 新北市中和区中正路880号4楼之3;张仲谦 新北市中和区中正路880号4楼之3
主权项
地址
台南市东区大学路1号
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