发明名称 具备有机多介电层之记忆体元件
摘要 本发明系揭露一种具备有机多介电层之记忆体元件,其系包含一基板、一闸极电极、一多介电层、一半导体通道层、一汲极电极及一源极电极。其中,闸极电极形成于基板上,多介电层形成于闸极电极上,半导体通道层、一汲极电极及一源极电极皆形成于多介电层上,且汲极电极与源极电极同时与半导体通道层电性接触。多介电层主要材料为具备氢氧基之有机高分子聚合物,其用以打开半导体通道层并捕捉电荷使元件具有记忆效应,同时多介电层中部分材料可降低漏电流。
申请公布号 TWI384616 申请公布日期 2013.02.01
申请号 TW098130835 申请日期 2009.09.11
申请人 国立成功大学 台南市东区大学路1号 发明人 黄俊元;陈应志;黄琮训;郑樵阳;苏炎坤
分类号 H01L27/28;H01L51/00 主分类号 H01L27/28
代理机构 代理人 李国光 新北市中和区中正路880号4楼之3;张仲谦 新北市中和区中正路880号4楼之3
主权项
地址 台南市东区大学路1号