发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 本发明系在底板(51)上形成下层绝缘膜(1),将具有半导体基板(4)及设置于该半导体基板下之多个外部接续用电极(13)的多个半导体构成体(2)固着在上述下层绝缘膜上,在上述半导体构成体之周围的上述下层绝缘膜上形成绝缘层(31a),且在上述半导体构成体及上述绝缘层上形成上层绝缘膜(32a)。其次,将上述底板(51)除去,其后,在上述下层绝缘膜下,将下层配线(22,22A)形成接续至上述半导体构成体之外部接续用电极,而且在上述上层绝缘膜上形成上层配线(33,33A)。其后,将上述半导体构成体之间的上述下层绝缘膜、上述绝缘层、及上述上层绝缘膜加以切断而获得多个半导体装置。
申请公布号 TWI384595 申请公布日期 2013.02.01
申请号 TW097129986 申请日期 2008.08.07
申请人 兆装微股份有限公司 日本 发明人 定别当裕康
分类号 H01L23/28;H01L23/48;H01L21/56;H01L21/60 主分类号 H01L23/28
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;丁国隆 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项
地址 日本