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发明名称
光学头的聚焦位置调整方法及其系统
摘要
本发明是关于一种光学头的聚焦位置调整方法,此光学头位于与一光学纪录媒体相距一预定距离之聚焦位置,用来对光学纪录媒体发出一预定功率之烧录光束,而将相对应之光学资料烧录于此光学纪录媒体上,此聚焦位置调整方法包括下列步骤:于烧录过程中改变光学头之聚焦位置,以产生出相对应之烧录射频讯号;搜寻出烧录射频讯号之极小值,以及相对应之一目标聚焦位置;以及将光学头调整至上述目标聚焦位置,使光学头后续能在此目标聚焦位置对光学纪录媒体进行烧录。
申请公布号
TWI384468
申请公布日期
2013.02.01
申请号
TW098111562
申请日期
2009.04.07
申请人
凌阳科技股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区创新一路19号
发明人
刘耀文;蔡政修
分类号
G11B21/21;G11B7/135
主分类号
G11B21/21
代理机构
代理人
叶信金 新竹市湳雅街311巷14号2楼
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区创新一路19号
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