用以形成抗反射涂层的聚合物

摘要

所揭示为一种聚合物及一种包含该聚合物的组合物，该聚合物用来在蚀刻层及光阻层间形成有机抗反射涂层，以吸收光微影蚀刻制程中的曝光光线。该用以形成有机抗反射涂层之聚合物具有如　或　所示的重复单元，其中R1是氢或甲基；且R2是有或无取代基之C1-C5烷基。此用以形成有机抗反射涂层之组合物包括具有上述结构式之重复单元的聚合物、光吸收剂及溶剂。