以二氧化钛为主之低ＰＨ值障蔽物研磨浆液

摘要

本发明提供一种化学-机械抛光基板之方法。使基板与抛光垫及抛光组合物接触，该抛光组合物包含由(A)由具有金红石结构之二氧化钛组成之粒子及(B)由具有锐钛矿结构之二氧化钛组成之粒子组成的研磨剂，其中该等粒子之X射线绕射图具有0.5或0.5以上之X/Y比率，其中X为X射线绕射曲线中表示d-间隔为3.24　之峰的强度，且Y为X射线绕射曲线中表示d-间隔为3.51　之峰的强度；及水。相对于该基板移动抛光组件，且研磨该基板之至少一部分以抛光该基板。