| 摘要 |
<p>Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Reinigung von polykristallinen Siliciumbruchstücken in einem sauren Reinigungsbad, wobei die Reinigung mehrere Reinigungszyklen umfasst, wobei bei jedem Reinigungszyklus eine bestimmte Menge an Säure verbraucht wird, wobei mittels eines Integrators eines rechnergesteuerten Dosiersystem jene bei jedem Reinigungszyklus verbrauchten Säuremengen zu einem aktuellen Gesamtverbrauch an Säure im Reinigungsbad aufsummiert werden, wobei nach Erreichen eines Gesamtverbrauchs an Säure im Reinigungsbad, der einer optimalen Dosiermenge des Dosiersystems entspricht, das Dosiersystem diese einem Vorratsbehälter entnommene optimale Dosiermenge an unverbrauchter Säure dem Reinigungsbad zuführt. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Reinigung von polykristallinen Siliciumbruchstücken in einem sauren Reinigungsbad, das einen Säurekreislauf umfasst, in dem Säure umgewälzt wird, dadurch gekennzeichnet, dass das Verhältnis von umgewälzter Säuremenge in Liter zur Masse der im Reinigungsbad befindlichen Polysiliciumbruchstücke in kg größer als 10 beträgt</p> |
