发明名称 气体液体槽结构
摘要 本案发明(以下以本产品称之)系一气体液体可交互作用,以使之可提供;以接触一气体去冷一液体;以不与气体接触之方式去加热液体;可浓缩液体;及自气体中除去杂质等功能用之槽构结构。其主要之原理系使在气流通道中可产生高度之滚转狂乱,而枥少留下压力之水滴。该结构包含许多间隔而垂直列置之壁面组件于其朝上指向之流道中,该等壁面组件具有间隔列置而水平伸展之转折器自面对壁面组件突出。在面对壁面组件间形成有系列之收歛及离散膛室部份,其中气体一般系作垂直于转折器之流动,该滚转狂乱系产生于转折器顶点与面对壁面部份之间,该气流将在朝向位于接续顶点之相反壁面组件时为所抵销,在某一设计中,液体系在气流中为所输送,当与气体接触后将在液体中激发高度的滚转狂乱。而在另一设计中,液体系与气体分隔。在不与气体接触而输送液体之设计中,转折组件呈中空状以让液体紧邻气体通过。有一供尘歧管可将液体载运入最高的转折组件,而壁面组件相反侧边组件间的液体将流入于壁面组件的每一转折组件,而自该壁面组件之最低转折组件放,出并藉此靠一连结的出口歧管以作重新循环。该结构提供有许多冷槽,浓缩槽、温度变换器及清洗设计,不论单独或结合,皆为可相容的组合组件者。
申请公布号 TW144346 申请公布日期 1990.10.21
申请号 TW076105726 申请日期 1987.09.24
申请人 米瑞国际股份有限公司 发明人 查理士L.雷蒙
分类号 F17D1/00 主分类号 F17D1/00
代理机构 代理人 胡问禾 台北巿长安东路二段一六一之一号二楼
主权项 1.一种气体液体槽之结构,其特征乃系包括:某一膛室,含气体之一入口及一出口;于膛室之第一部份有许多间隔平行的壁面组件,该壁面组件之相对表面具有间隔列置之转折板组件自此突出并保持平行关系,以产生滚转狂乱之气流,移动于一般与转折板组件垂直之壁面组件间,其中面对壁面组件间之间隔区域(包括转折板组件)构成了系列的收敛及离散膛室部份,每一管道部份具有一入口及一出口,该离散管道部份之入口系侧面弥补于第一个壁面组件,而该收敛管道部份之出口则由离散管道部份直接喂入,后者系侧面弥补于面对之壁面组件;以及输送至少第一液体之装置,该液体将自壁面组件附近朝向于膛室入口而与气体接触,同时该装置可输送流体而不使与气体接触而却能与之起交互作用者。2.如请求专利部份第1项所述之结构,其中膛室的出口系位于入口上方,而面对壁面组件上的转折板组件具有与壁面件垂直之整推侧边厚度,而该等壁面组件则间隔分开约为整体之侧边厚度,本装置且进一步包括分配装置,能使第一液体靠近壁面组件之顶部,当缺乏气流时第一液体将自转折板组件之顶点落下,并街击到面对壁面组件下一较低之转折器上者。3.如请求专利部份第1或2项所述之结构,其中至少有某些将折板组件是呈多边交错的,其中有一侧一般系位正限定某相连壁面组件之节段之同一平面上,而该壁面组件即系相关之转析组件所伸展者。4.如请求专利范围第1或2项之结构中,至少有某些转折板组件具有第一及第二表面,该第一表面用以限定收敛管道部份之一侧,而第二表面则用以限定离散膛室部份之一侧者;该第一及第二表面于一转折顶点交会,该顶点具有一内角于转折组件之内,该角系60至135之间者。5.如请求专利部份第4项之结构,其中第一表面至少有某些转折组件呈凹状弯曲,以产生每一具弯曲表面之转折组件顶点附近之气体滚转狂乱者。6.如请求专利部份第4项之结构,其中至少有些转折组件呈三角形交错,其中一侧通常位在限定某相连壁面组件之节段同一平面上,而该壁面组件即系相关之转折组件所伸展者;另两侧则包含转组件之第一及第二表面者。7.如请求专利部份第6项之结构,其中转折组件之顶点系位于一面对转折组件之壁面组件节段与第一表面交叉处之对面附近者。8.如请求专利部份第1或2项之结构,其中至少有某些转折组件是中空的,可运送流体以转移气体与流体间之温度,至少有一壁面组件包含相反分隔开的侧边组件,构成其间之一凹穴沟通而构成某相应侧边组件之部份,该凹穴系至少与两个中空的转折组件沟通,以让流体流于壁面组件内之转折组件间,其流动方向一般系垂直于壁面组件平面上之转折组件者。9.请求专利部份第8项之结构进一步包括许多网状组件以防止基于壁面组件内流体压力所造成侧边组件之分离,该网状系平行列置于垂直于壁面组件之处,同时亦垂直于壁面组件相反侧边间之转折组件及相关之面对壁面组件者。10.如请求专利部份第9项之结构,其中至少有某些纲状组件对一邻接的中空转折组件具有低热的抵抗性者。11.如请专利范田第2项之结构,其中朝上之气流受转折组件第一表面之影响而作侧边及朝上之转折,而当直接交错液流于侧边之第二表面时,被流将分裂成许多小水滴,并由之产生与气体接触之液体的大范围表面者。12.如请求专利部份第2或11项之结构,进一步包含许多间隔之纲状组件,该等组件垂直伸展于邻接之壁面组件间以限定气体于许多管道节段中的一对面对壁面组件间,由之可防止气体作平行于转折组件方向之侧边流动者。13.如请求专利部份第2或11项之结构,其中分配装置包含有:将第一液体导入至少某些壁面组件之装置(系实际沿着壁面组件顶部之纵长,以使液体能实际流于壁面组件侧边之全程纵长上);以及喂入导向装置之歧管装置者。14.如请求专利部份第13项之结构,其中壁面组件包括第一及第二设计,第一设计之壁面组件具有最高之转折组件于其相对两侧,该最高转折组件系垂直位于面对壁面组件之最高转折组件上,而其中导向装置为所连结以将第一液体导至第一设计之壁面组件之每侧者。15.如请求专利部份第13项之结构,其中导向装置包括:一U形组件,具有一延长开口于其底部以接纳某壁面组件之顶部;以及将该开口侧边与壁面组件分隔开某事先决定距离之装置者。16.如请求专利部份第13项结构,其中歧管装置包括一平行连结的导管,使自导向装置而来的液体压力能有均衡之分配者。17.如请求专利部份第2项之结构,其中每一壁面组件包括可变异而水平伸展之节段,该等节段倾于垂直之相反侧而与面对壁面组件之相应节段维持平行关系,该等转折组件系位于节段之结合处,且具有前后两侧,前侧包括第一及第二表面,而后侧则构成壁面组件之邻接节段间的凹穴转移表面者。18.如请求专利部份第17项之结构,其中每一转折组件之第一表面系呈凹状弯曲,而第二表面则其所结合之壁面组件节段之平面延伸者。19.如请求专利部份第17项之结构,其中离散膛室部份形成于第二表面与面对转折组件之转移表面丙者之间者。20.如请求专利部份第17项之结构,其中该转折组件之转移表面具有一弯曲半径约与邻接节段及相应面对节段间的正常间隔相等者。21.如请求专利部份第17项之结构,其中转折器之转移面系直接连至邻接面组件节段上之某转析器的第一表面,由之气流直接自离散膛室部份进入于下一接续之收敛膛室部份者。22.如请求专利部份第2或11项之结构,进一步包括扩散装置可平均分配壁面组件间之气体流量,包含:一穿孔薄片以构成一气体扩散表面:以及收集液体之装置,该液体系落自膛室底部,而实质上并无液体通过该穿孔薄片者。23.如请求专利部份第22项之结构,其中气体扩散表面倾于将液体自气流处作侧边之导向者。24.如请求专利部份第22项之结构,包含将气体喂人于扩散装置之风炉装置者。25.如请求专利部份第22项之结构,进一步包括收集落自膛室底部液体之装置,包含:许多横互于壁面组件之垂直走向的管道;一转折条位于每一管道上以将落下之液体自管道作侧边之导向而与气体混合,管道底部形成有一与风扇装置密闭之连结,用以收集液体,却不让该液体进入管道。26.如请求专利部份第25项之结构,其中风扇装置包含许多U形组件以构成管道,该结构并进一步包括歧道装置以收集来自U组件之液体者。27.如请求专利部份第2或11之结构,进一步包括于壁面组件间平均分配气流之装置,包含:膛室之第二部份,该第二膛室部份在第一膛室部份下具有一主要部份,并有一入口部份水平列置于该主要部份,该入口部份具有一该气体水平进入其间的入口;在入口膛室部份中有第一系列之离散而垂直导向水平推展风车叶,并自主要膛室部份附近之入口处伸展,以自该入口对流作水平之推散;以及在主要膛室部份中有第二系列之垂直而呈杯状之水平导向转折风车叶,可将气流之水平方向改变为直方向,该杯状转折风车叶系自水平风车叶顶部附近作对角线之分隔,并朝下至于相对于水平风车叶此间某侧附近之主要膛室部份之底部者。28.如请求专利部份第2或11项之结构,其中第一液体可修改用以淆洁气体中之杂质,该结构进一步包括:一稍微倾斜之间隔组件,涵盖有第一部份上方膛室之第二部份,该间隔组件具有一较低穿孔的区域可该气推通过,并有一较高之未穿孔区域以接纳并扩散某一清洁液,并将之导入于穿孔部份;以及自间隔组件顶面收集过剩液体之装置,毋须该液体流过穿孔部份者。29.如请求专利部份第28项之结构,其中清洁液包含某一肥皂般原料以产生大量泡沫而提供气体可为冲击之大范围区域,而改进流体自气体中收集杂质之能力者。30.如请求专利部份第2或11项之结构,其中膛室系一主要膛室,该结构进一步包括o一较低膛室,其侧边之气体入口;将气体自较低膛室导入主要膛室之装置;该液体能自主要膛室落通过较低膛室之装置;及收集透过较低膛室底部落下液体之装置者。31.一种做为可清除气体中杂质之用的气体液体槽结构,其结构乃包括:一膛室,包含有气体之一入口及一出口,而其出口系在入口之上者;在膛室第一部份有许多垂直间隔但平行伸展之壁面组件,该壁面组件之面对表面具有间隔列置而水平伸展之转折组件突出以产生朝上之气流之滚转狂乱(系于通常垂直于转折器之壁面组件间产生),其中至少有些转折组件具有第一及第二表面,第一表面用以限定收敛管道部份之一侧,而第二表面用以限定离散膛室部份之一侧,该第一及第二表面交会于一转折顶点,该顶点具有转折组件中之一内角,该角系于60至135%之间者;可将清洁液自壁面组件顶部附近一般朝下输送之装置,该液将至于壁面组件底部而与气体接触,从而可清除气体中之杂质,该输送装置包含将清洁波导入至少某些壁面组件之装置(系沿着壁面组件之实际长度导入);一稍傲倾斜之间隔组件,于第一部份上涵盖膛室之第二部份,该间隔组件具有一较低之穿孔区域以该气体通过,并有一较高之未穿孔区域,能接纳并扩散清洁液并将之导人于穿孔部份;及﹒自间隔组件顶部表面收集过利液体之装置,毋须该液体流通过该穿孔部份者。图示简单说明:图一系本产品气体液体槽状结构之一片断剖面图;图二系图一节段2部份结构之片断透视图;图三系图三3-3线上之图一结构的片断剖面图;图四系在图三之片断剖面所见之图一结构的另一可变异之设计;图五系相应于图三之截面图样,显示有图一结构之另一双异设计;图八系图五中之截面图样,显示有图一结构之另一变异设计;图七系图五中之截面图样,显示有图一结构更进一步之变异设计;图八系图一结构节段8内之片断透视图;图九系图一结构节段9内之片断透视图;图十系图一结构节段10内之片断透视图;图十一系图一槽构之一变异设计的片断剖面图;图十二系图一结构之另一变异设计的片断剖面图;图十三系图一结构节段8之一变异设计的片断透视图;图十四系图一结构之一变异设计在节段14内之片断透视图;图十五系一透视图样,显示有图一结构之一变异设计;图十六系一透视图样,显示有图一结构之另一变异设计;图十七系图二3-3线上图一结构另一设计之截而图;图十八系图十七结构之一变异设计的截面图样。
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