发明名称 |
基于GaN衬底的石墨烯CVD直接外延生长方法及制造的器件 |
摘要 |
本发明公开了一种基于GaN衬底的石墨烯CVD直接外延生长方法,采用III-V族化合物半导体GaN作为衬底,通过对GaN衬底进行合理的预处理,调节生长压力,流量以及温度,实现了石墨烯生长的最优化,在GaN上面直接生长石墨烯,无需金属作为催化剂,生长的石墨烯无需转移过程,便可以直接用于制造各种器件,为氮化镓-石墨烯结构器件提供了材料,提高了器件的电学特性,可靠性,降低了器件制造的复杂性。 |
申请公布号 |
CN102903617A |
申请公布日期 |
2013.01.30 |
申请号 |
CN201210408272.6 |
申请日期 |
2012.10.22 |
申请人 |
西安电子科技大学 |
发明人 |
宁静;王东;韩砀;闫景东;柴正;张进成;郝跃 |
分类号 |
H01L21/205(2006.01)I;C30B25/02(2006.01)I;C30B25/18(2006.01)I;C30B29/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/205(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种基于氮化镓衬底的石墨烯CVD直接外延方法,其特征在于,采用III‑V族化合物半导体GaN作为衬底,通过对GaN衬底进行合理的预处理,调节生长压力,流量以及温度,实现了石墨烯生长的最优化,在GaN上面直接生长石墨烯,无需金属作为催化剂,生长的石墨烯无需转移过程,为氮化镓‑石墨烯结构器件提供了材料,可直接用于制造各种器件。 |
地址 |
710065 陕西省西安市雁塔区太白南路2号 |