发明名称 用于化学气相沉积设备的气体喷射单元
摘要 本发明涉及一种用于化学气相沉积设备的气体喷射单元,该气体喷射单元通过使冷却剂流畅流动可以进行均匀地冷却,并且易于制造。该用于化学气相沉积设备的气体喷射单元尤其包括:气体分配壳体;冷却壳体,该冷却壳体位于所述气体分配壳体和执行沉积处理的处理室之间,并形成有用于引入冷却剂的的冷却剂入口和用于排放冷却剂的冷却剂出口;处理气体管,该处理气体管的一端通向所述气体分配壳体,该处理气体管的另一端通向所述处理室,该处理气体管贯穿所述冷却壳体;以及第一壁部,该第一壁部位于所述冷却壳体内,并将所述冷却壳体的内部分隔为通路和外围通路,该第一壁部形成有使所述通路与所述外围通路连通的通孔。
申请公布号 CN101985742B 申请公布日期 2013.01.30
申请号 CN201010278401.5 申请日期 2010.07.28
申请人 丽佳达普株式会社 发明人 李在珷
分类号 C23C16/00(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I 主分类号 C23C16/00(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 党晓林
主权项 一种用于化学气相沉积设备的气体喷射单元,该气体喷射单元包括:气体分配壳体;冷却壳体,该冷却壳体位于所述气体分配壳体和执行沉积处理的处理室之间,其中该冷却壳体形成有用于引入冷却剂的冷却剂入口和用于排放冷却剂的冷却剂出口;处理气体管,该处理气体管的一端通向所述气体分配壳体,该处理气体管的另一端通向所述处理室,其中该处理气体管形成为穿过所述冷却壳体的一部分;以及第一壁部,该第一壁部位于所述冷却壳体内,并将所述冷却壳体分隔为中央通路和外围通路,其中该第一壁部形成有用于在所述中央通路与所述外围通路之间提供通路的一个或更多个通孔,其中,所述冷却剂入口和所述冷却剂出口形成在所述外围通路中,并且所述气体喷射单元还包括第二壁部,该第二壁部位于所述外围通路中,以将所述外围通路的具有所述冷却剂入口的部分与所述外围通路的具有所述冷却剂出口的部分分隔开,从而防止从所述冷却剂入口引入到所述外围通路中的冷却剂没被引入所述中央通路中就被排放到所述冷却剂出口。
地址 韩国京畿道