| 主权项 |
1.一种具有狭窄同系物分布之烷氧化物的制造方法,其系以主链为直链或支链之C6至C18-烷醇族群中的化合物与氧化烯烃反应,并使用五卤化锑做为触媒,该方法系包括:a)于20至60℃之温度,将五卤化锑溶解于部份欲烷氧化之化合物中,以备制一含有5至30mo %五卤化锑的触媒溶液;b)将步骤a)中所制得之溶液或其之部份与剩余之欲烷氧化化合物结合,而形成一烷氧化反应之起始溶液,以将上述之溶液做为触媒组份,上述结合之程序系于20至80℃之温度下进行,惟其之先决条件系于上述之溶液中存有0.05至1mo %之五卤化锑:以及c)将于步骤b)中所备制之起始溶液块氧化烯烃于40至160℃之温度下进行反应。2.如申请专利范围第1项之方法,其中于步骤a)中所备制的触媒溶液系含有10至20mo%之五卤化锑。3.如申请专利范围第1项之方法,其中于步骤b)中所备制的起始溶液系含有0.2至0.6mo %之五卤化锑。4.如申请专利范围第1至3项中任何一项之方法,其中使用做为触媒者系为五卤化锑,而使用做为氧化烯径者系为氧 |
