发明名称 具有表面凹凸结构的聚合物构件的制造方法及聚合物构件
摘要 本发明的目的在于,提供容易控制表面凹凸结构的聚合物构件的制造方法、和通过该制造方法得到的聚合物构件。本发明的具有表面凹凸结构的聚合物构件(10)的制造方法的特征在于,其具有如下的工序A和工序B,工序A:层叠各层,使得在能够吸收聚合性单体(2)的单体吸收层(5)与具有凹凸表面(1a)的凹凸转印材料层(1)的凹凸表面(1a)之间配置有含有聚合性单体(2)的聚合性组合物层(4),工序B:聚合聚合性单体(2);聚合性组合物层(4)含有对聚合性单体(2)和聚合聚合性单体而得到的聚合物不相容的不相容性物质(3);进行工序B之前,使聚合性组合物层(4)中的聚合性单体(2)的一部分吸收到单体吸收层(5)中。
申请公布号 CN102905884A 申请公布日期 2013.01.30
申请号 CN201180026031.9 申请日期 2011.07.28
申请人 日东电工株式会社 发明人 樋田贵文;长崎国夫;杉野裕介;土井浩平
分类号 B32B3/30(2006.01)I;B29C41/22(2006.01)I;B32B27/18(2006.01)I;B29L9/00(2006.01)I 主分类号 B32B3/30(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;李茂家
主权项 一种聚合物构件的制造方法,其特征在于,其为具有表面凹凸结构的聚合物构件的制造方法;其具有如下的工序A和工序B,工序A:层叠各层,使得在能够吸收聚合性单体的单体吸收层与具有凹凸表面的凹凸转印材料层的所述凹凸表面之间配置有含有所述聚合性单体的聚合性组合物层,工序B:聚合所述聚合性单体;所述聚合性组合物层还含有对所述聚合性单体和聚合所述聚合性单体而得到的聚合物不相容的不相容性物质;进行所述工序B之前,使所述聚合性组合物层中的所述聚合性单体的一部分吸收到所述单体吸收层中。
地址 日本大阪府