发明名称 |
接合构造及半导体制造装置 |
摘要 |
提供一种高可靠性的接合构造及具有该接合构造的半导体制造装置,该接合构造具有埋设在陶瓷构件中的金属端子和与外部连接、或从外部供给电力的金属连接构件。实施方式中的半导体用基座1,由氮化铝构成,具有带孔的陶瓷构件4、由钼构成的埋设在陶瓷构件4中的端子3、插入到孔中的与端子3连接的由钼构成的连接构件5、连接端子3和连接构件5的焊料接合层6,焊料接合层6只由金(Au)构成。 |
申请公布号 |
CN101483146B |
申请公布日期 |
2013.01.30 |
申请号 |
CN200910002216.0 |
申请日期 |
2009.01.08 |
申请人 |
日本碍子株式会社 |
发明人 |
竹林央史;中村太一;藤井知之 |
分类号 |
H01L21/683(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;C23C16/46(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/683(2006.01)I |
代理机构 |
北京银龙知识产权代理有限公司 11243 |
代理人 |
张敬强 |
主权项 |
一种接合构造,其特征在于,具有:由氮化铝构成的设有孔的陶瓷构件;埋设在所述陶瓷构件中且具有露在所述孔底面的露出面,并由钼构成的端子;与所述端子的所述露出面连接的、只由金构成的焊料接合层;以及插入到所述孔中,且通过所述焊料接合层与所述端子连接的、由钼构成的连接构件,所述连接构件具有:本体部;以及与所述本体部连接的端部;所述端部具有通过所述焊料接合层与所述孔底面连接的接合面;所述连接构件的所述接合面和所述孔的底面相互大致平行;所述端部的外侧面和所述孔的内侧面之间的间隔,比所述本体部的外侧面和所述孔的内侧面之间的间隔大;所述本体部的外侧面和所述孔的内侧面之间的间隔超过0mm且为0.5mm以下;在所述接合面的直径为4mm以上、6mm以下时,所述孔底面的直径比所述接合面的直径大1~1.5mm;所述金层的厚度为3μm以上10μm以下。 |
地址 |
日本爱知县 |