| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液，包含：水、研磨剂、能产生银离子的化合物、冠醚。本发明的抛光液显著增加了抛光液对可见光的稳定性，并可以保持抛光液具有长期稳定的抛光性能。 | ||
| 申请公布号 | CN102898950A | 申请公布日期 | 2013.01.30 |
| 申请号 | CN201110211559.5 | 申请日期 | 2011.07.27 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 王晨;何华锋 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，包含：水、研磨剂、能产生银离子的化合物、冠醚。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室 | ||