| 发明名称 | 发光元件的转移方法以及发光元件阵列 | ||
| 摘要 | 一种发光元件的转移方法，其包括：在第一衬底上形成多个阵列排列的发光元件，各发光元件包括元件层以及牺牲图案，且牺牲图案位于元件层与第一衬底之间；在第一衬底上形成保护层以选择性地覆盖部分的发光元件，其中部分的发光元件未被保护层所覆盖；令未被保护层所覆盖的元件层与第二衬底接合；以及移除未被保护层所覆盖的牺牲图案，以使部分的元件层与第一衬底分离而转移至第二衬底上。 | ||
| 申请公布号 | CN102903804A | 申请公布日期 | 2013.01.30 |
| 申请号 | CN201210258044.5 | 申请日期 | 2012.07.24 |
| 申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 叶文勇;赵嘉信;吴明宪;戴光佑 |
| 分类号 | H01L33/00(2010.01)I;H01L27/15(2006.01)I | 主分类号 | H01L33/00(2010.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 宋焰琴 |
| 主权项 | 一种发光元件的转移方法，包括：在第一衬底上形成多个阵列排列的发光元件，各发光元件包括元件层以及牺牲图案，且该牺牲图案位于该元件层与该第一衬底之间；在该第一衬底上形成保护层以选择性地覆盖部分的发光元件，其中部分的发光元件未被该保护层所覆盖；令未被该保护层所覆盖的元件层与第二衬底接合；以及移除未被该保护层所覆盖的牺牲图案，以使部分的元件层与该第一衬底分离而转移至该第二衬底上。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹县 | ||