发明名称 |
一种用于真空镀膜设备的双层密封结构 |
摘要 |
本实用新型涉及一种用于真空镀膜设备的双层密封结构,包括真空泵,真空泵通过真空管道与法兰上泄气孔8连接,其特征在于:它由内层密封圈3、外层密封圈4以及密封法兰1和光面法兰2组成,密封法兰1密封面上开有密封槽6,内层密封圈3和外层密封圈4嵌于密封槽6内;两密封圈间开有泄气槽7,法兰体上开有一泄气孔8,泄气槽7通过泄气孔8以及真空管道与真空泵相连,通过真空泵可以把两密封圈间的气体排出,形成真空,提高密封效果。两密封圈在螺栓力或者重力和压差力的作用下压紧光面法兰2,形成双层密封。本实用新型能够实现真空腔体的可靠的密封;同时,本实用新型具有结构简单,使用寿命长,易于安装、拆卸的优点。 |
申请公布号 |
CN202705460U |
申请公布日期 |
2013.01.30 |
申请号 |
CN201220331363.X |
申请日期 |
2012.07.09 |
申请人 |
中国建材国际工程集团有限公司 |
发明人 |
罗松松;葛治亮;李险峰 |
分类号 |
C23C14/56(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/56(2006.01)I |
代理机构 |
上海三方专利事务所 31127 |
代理人 |
吴干权;李美立 |
主权项 |
一种用于真空镀膜设备的双层密封结构,包括密封法兰(1)、光面法兰(2)、 内层密封圈(3)、外层密封圈(4)、支架(5)、密封槽(6)、泄气槽(7)、泄气孔(8)和真空泵,其特征在于所述密封法兰(1)的密封面上开设有密封槽(6),密封槽(6)内设有内层密封圈(3)和外层密封圈(4),内层密封圈(3)和外层密封圈(4)之间开设有泄气槽(7),泄气槽(7)上设有泄气孔(8) ,泄气槽(7)通过泄气孔(8)连接真空管道一端,真空管道另一端连接真空泵。 |
地址 |
200063 上海市普陀区中山北路2000号中期大厦27层 |