| 发明名称 | 中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃及工艺 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃及镀制工艺，该玻自玻璃基板向外的结构层依次为：玻璃/电介质层（1）/复合吸收层（1）/铜合金层（1）/银层（1）/保护层（1）/复合电介质层（1）/银层（2）/保护层（2）/电介质层（2）；采用真空磁控溅射镀膜工艺，优点是，在原有复合结构中新增加一层铜合金层，能够使其透过颜色呈中性色。并且，铜合金和银的特性使得该玻璃对远红外线的放射率大大提高，即达到了低辐射的性能。 | ||
| 申请公布号 | CN102898041A | 申请公布日期 | 2013.01.30 |
| 申请号 | CN201210430335.8 | 申请日期 | 2012.11.01 |
| 申请人 | 上海耀皮玻璃集团股份有限公司;上海耀皮工程玻璃有限公司 | 发明人 | 陈波;吴斌;孙大海;葛剑君;董华明 |
| 分类号 | C03C17/36(2006.01)I;B32B17/06(2006.01)I;B32B15/04(2006.01)I;B32B18/00(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I | 主分类号 | C03C17/36(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海东亚专利商标代理有限公司 31208 | 代理人 | 罗习群;刘莹 |
| 主权项 | 一种中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃，其特征在于：在玻璃基板镀制包含有复合吸收层在内的多层膜层的结构，各膜层结构，自玻璃基板向外依次为：电介质层（1）、复合吸收层（1）、铜合金层（1）、银层（1）、保护层（1）、复合电介质层（1）、银层（2）、保护层（2）、电介质层（2）；其中：电介质层（1）为SiNx，膜层厚度为 25nm～50nm; 复合吸收层（1）为在NiCr镀层上再镀陶瓷ZnOx层，总膜层厚度为12nm~14nm;铜铝合金层（1）为CuAlNx层，膜层厚度为2~10nm；银层（1）、（2）为Ag，膜层厚度为 5nm~15nm;保护层（1）、（2）为NiCr，膜层厚度为 0nm~14nm; 复合电介质层（1）为在ZnO镀层上再依次镀SnO2层、ZnO层结构，总膜层厚度为 50nm~110nm; 电介质层（2）为Si3N4，膜层厚度为 35nm~50nm。 | ||
| 地址 | 201204 上海市浦东新区莲溪路1210号1号楼 | ||