| 发明名称 | 一种用于真空溅镀的溅镀靶 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种靶材，尤其涉及一种用于真空溅镀的溅镀靶。一种用于真空溅镀的溅镀靶，包括靶材，所述靶材一面固定设有遮蔽冶具。本实用新型结构简单，使用方便，可以做出类似渐变色的效果。 | ||
| 申请公布号 | CN202705455U | 申请公布日期 | 2013.01.30 |
| 申请号 | CN201220296912.4 | 申请日期 | 2012.06.25 |
| 申请人 | 浙江柏腾光电科技有限公司 | 发明人 | 郑志铭 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 杭州丰禾专利事务所有限公司 33214 | 代理人 | 王鹏举 |
| 主权项 | 一种用于真空溅镀的溅镀靶，其特征在于，包括靶材（1），所述靶材（1）一面固定设有遮蔽冶具（2）。 | ||
| 地址 | 313300 浙江省湖州市安吉县递铺镇阳光工业二区吉二路浙江柏腾光电科技有限公司 | ||