发明名称 REDUCTION D'INTERFERENCES MECANIQUES DANS UN SYSTEME DE COLLAGE DE SUBSTRATS A BASSE PRESSION
摘要 Un système de collage de substrats (200) est fourni, dans lequel un système de réduction d'interférences mécaniques (260) réduit l'influence de forces mécaniques agissant sur des substrats devant être collés dans une chambre de procédé (250) du système de collage (200). De cette façon, la fiabilité et la robustesse d'un procédé de collage à basse pression peuvent être accrues.
申请公布号 FR2978297(A1) 申请公布日期 2013.01.25
申请号 FR20110056725 申请日期 2011.07.23
申请人 S.O.I. TEC SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGIES 发明人 CASTEX ARNAUD
分类号 H01L21/98 主分类号 H01L21/98
代理机构 代理人
主权项
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