发明名称 GROUP III NITRIDE-BASED LAYER SEQUENCE, COMPONENT, AND PRODUCTION METHOD
摘要 <p>Gruppe-lll-Nitrid-basierte Schichtenfolge (100), zumindest umfassend eine AlxGayln1-x-yN-basierte Keimschicht (102) und eine AlxGayln1-x-yN-Schicht (103) auf einem Gruppe-IV-Substrat (101) mit x xGayln1-x-yN-Keimschicht (102) auf dem Substrat (101) angeordnet ist und x > 0.2 gilt.</p>
申请公布号 WO2013010533(A1) 申请公布日期 2013.01.24
申请号 WO2012DE00737 申请日期 2012.07.19
申请人 OTTO-VON-GUERICKE-UNIVERSITAET MAGDEBURG;DADGAR, ARMIN;KROST, ALOIS 发明人 DADGAR, ARMIN;KROST, ALOIS
分类号 H01L21/02;H01L21/20 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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