Sulfonamid-enthaltende Fotoresist-Zusammensetzungen und Verfahren zur Verwendung

摘要

Es werden Sulfonamid-enthaltende Fotoresist-Zusammensetzungen für die Verwendung bei lithographischen Verfahren bereitgestellt, die verbesserte Eigenschaften für die hochauflösende Bildgebung mit geringer Unschärfe aufweisen. Ferner werden alkohollösliche Fotoresiste für Fotoresist-auf-Fotoresist-Anwendungen bereitgestellt. Die Sulfonamid-enthaltenden Fotoresist-Zusammensetzungen gemäß der vorliegenden Erfindung umfassen Positiv-Fotoresist-Zusammensetzungen, die Sulfonamid-substituierte Wiederholungseinheiten mit einer verzweigten Verknüpfungsgruppe aufweisen, wie in Formel (I) gezeigt: