发明名称 |
一种恶臭假单胞菌用培养基 |
摘要 |
一种恶臭假单胞菌用培养基,每1000mL培养基中含有牛肉膏7~13g,尿素2~5g,磷酸氢二钾2~3g,磷酸二氢钾0.5~2g,氯化钙0.3~1.2g,硝酸钠3.4~5.6g,微量元素和生长因子溶液1~5mL,去离子水余量,其中微量元素和生长因子溶液中含MoSO42.4~3.6mmol/L,CuCl21.5~2.8mmol/L,ZnCl23.0~4.0mmol/L,FeSO44.2~4.8mmol/L,尿嘧啶15~21mmol/L,VB620~35mmol/L,L-色氨酸30~50mmol/L。本发明提供的培养基为恶臭假单胞菌提供了优良的生长环境,使用本发明培养基培养恶臭假单胞菌培养时间快,菌株耐受性高,适应能力强,对硝基苯的降解效率达94.5%以上,同时还对含苯环和硝基类物质具有较高的耐受性。 |
申请公布号 |
CN102888378A |
申请公布日期 |
2013.01.23 |
申请号 |
CN201210432500.3 |
申请日期 |
2012.11.02 |
申请人 |
中北大学 |
发明人 |
郭峰波;贾万利;李颖 |
分类号 |
C12N1/20(2006.01)I;C12R1/40(2006.01)N |
主分类号 |
C12N1/20(2006.01)I |
代理机构 |
太原华弈知识产权代理事务所 14108 |
代理人 |
李毅 |
主权项 |
一种恶臭假单胞菌用培养基,每1000mL培养基中含有:牛肉膏7~13g,尿素2~5g,磷酸氢二钾2~3g,磷酸二氢钾0.5~2g,氯化钙0.3~1.2g,硝酸钠3.4~5.6g,微量元素和生长因子溶液1~5mL,去离子水余量;其中,所述的微量元素和生长因子溶液中含MoSO4 2.4~3.6mmol/L,CuCl2 1.5~2.8mmol/L,ZnCl2 3.0~4.0mmol/L,FeSO4 4.2~4.8mmol/L,尿嘧啶15~21mmol/L,VB6 20~35mmol/L,L‑色氨酸30~50mmol/L;调节培养基的pH值范围为7.5~8.2。 |
地址 |
030051 山西省太原市学院路3号 |