发明名称 |
ITO膜的加工方法及电子设备 |
摘要 |
一种ITO膜的加工方法,包括以下步骤:将附有ITO膜的基底放置在加工台面上,所述ITO膜朝向所述台面并在ITO膜与所述台面之间设置间隙;从所述基底所在的一侧发射激光对所述ITO膜进行加工。采用激光加工的方法,不需要使用化学药品,可以避免对环境造成污染,并且采用激光技术进行ITO膜加工便可以实现快速制造的目的。此外,还提供了一种包含采用上述ITO膜的加工方法制备的透明电极的电子设备。 |
申请公布号 |
CN101569958B |
申请公布日期 |
2013.01.23 |
申请号 |
CN200910105852.6 |
申请日期 |
2009.03.06 |
申请人 |
深圳市大族激光科技股份有限公司;深圳市大族数控科技有限公司 |
发明人 |
高云峰;翟学涛;高子丰;雷群 |
分类号 |
B23K26/00(2006.01)I |
主分类号 |
B23K26/00(2006.01)I |
代理机构 |
广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 |
代理人 |
曾旻辉 |
主权项 |
一种ITO膜的加工方法,其特征在于,包括以下步骤:将附有ITO膜的基底放置在加工台面上,所述ITO膜朝向所述台面并在ITO膜与所述台面之间设置间隙;所述间隙的高度为4‑6mm;从所述基底所在的一侧发射激光对所述ITO膜进行加工;在所述间隙处吸尘,在台面上开设通孔,使通孔与间隙相通并在通孔处抽风达到吸尘的效果;所述激光的波长为100‑400nm,激光的脉冲频率为120‑150KHz,激光的脉冲宽度为3us,激光的功率为1.5‑2.0W,激光的开关延时为20‑80us,激光的切割速度为180‑250mm/s。 |
地址 |
518000 广东省深圳市南山区高新科技园松坪山工厂区5号路8号研发楼606室 |