高精度氧化铝抛光粉及其生产方法

摘要

本发明公开了一种氧化铝抛光粉及其生产方法，其特征在于：D50粒径小于2.0μm；且满足：D10≥0.5D50；D90≤2D50；D100≤3D50。制备方法，包括如下步骤：将原料α-氧化铝与水打浆，然后分级，获得产物。本发明的氧化铝抛光粉，具有中位径粒小，粒度分布范围窄的特点，抛光粉的抛光精度稳定性容易控制，产品质量波动小，可用于液晶显示屏用玻璃，平面显示、光学元件、超薄玻璃基片、玻璃磁盘等电子产品元器件的精密抛光加工；同时高精度氧化铝抛光粉还可用于制备化学机械抛光用氧化铝抛光液。

主权项

制备高精度氧化铝抛光粉的方法，所述高精度氧化铝抛光粉，D50粒径小于2.0μm；且满足：D10≥0.5D50；D90≤2D50；D100≤3D50，其特征在于，包括以下具体步骤：(1)将中位粒径D50＜2.0μm的α‑氧化铝与水混合打浆，获得浆液，然后分级，收集含有不同粒度分布的α‑氧化铝的浆液C’和浆液D’；浆液C’的粒度分布如下：D50＝1.5±0.2μm，D10≥0.5D50，D90≤2D50，D100≤3D50；浆液D’的粒度分布如下：D50＝0.5±0.2μm，D10≥0.5D50，D90≤2D50，D100≤3D50；(2)将收集的浆液干燥；(3)将步骤(2)的产物经气流粉碎，直至500目筛网过筛后无筛上物，得到所述的高精度氧化铝抛光粉。