发明名称 一种活性焦的氨再生装置
摘要 本实用新型公开了一种活性焦的氨再生装置,所述装置包括:活性焦再生塔1、烟道2、电加热器3、NH3测量装置4、NH3喷射装置5、计算机控制端11和风机12,活性焦再生塔1中设有挡板,将活性焦再生塔1分为再生加热反应区I区和再生冷却区II区,电加热器3和NH3测量装置4分别设于活性焦再生塔1I区和II区之间的烟道2上,NH3喷射装置5设于NH3测量装置4和II区之间的烟道2上,风机12设于NH3喷射装置5和II区之间的烟道2上,NH3测量装置4、NH3喷射装置5和风机12分别与计算机控制端11连接。本实用新型通过利用NH3喷射装置5在活性焦再生塔1中喷入氨气,降低了能耗,提高活性焦的利用效率。
申请公布号 CN202683078U 申请公布日期 2013.01.23
申请号 CN201220333827.0 申请日期 2012.07.10
申请人 中国华电工程(集团)有限公司;华电环保系统工程有限公司 发明人 苏军划;李超;李建浏;陶爱平;胡永锋;沈煜晖
分类号 B01D53/96(2006.01)I;B01D53/76(2006.01)I;B01D53/50(2006.01)I;B01D53/14(2006.01)I 主分类号 B01D53/96(2006.01)I
代理机构 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 代理人 郭防
主权项 一种活性焦的氨再生装置,其特征在于,包括:活性焦再生塔(1)、烟道(2)、电加热器(3)、NH3测量装置(4)、NH3喷射装置(5)、计算机控制端(11)和风机(12),活性焦再生塔(1)中设有挡板,将活性焦再生塔(1)分为再生加热反应区I区和再生冷却区II区,电加热器(3)和NH3测量装置(4)分别设于活性焦再生塔(1)I区和II区之间的烟道(2)上,NH3喷射装置(5)设于NH3测量装置(4)和II区之间的烟道(2)上,风机(12)设于NH3喷射装置(5)和II区之间的烟道(2)上,NH3测量装置(4)、NH3喷射装置(5)和风机(12)分别与计算机控制端(11)连接。
地址 100035 北京市西城区西直门内大街273号华电工程大厦B座5楼