发明名称 涂覆装置及涂覆方法
摘要 本发明提供一种涂覆装置及涂覆方法,其在能够以良好精密度将液体涂覆在涂覆区域者。在使遮罩4位于试涂位置的状态下,使喷嘴于X方向来回移动,同时向遮罩4吐出有机EL材料以将涂覆轨迹CL形成在遮罩4之内周面上。然后,以CCO摄像机拍摄该涂覆轨迹CL之光学像ICL,将显示其涂覆轨迹CL的图像资料暂时储存在控制部之记忆体。又,在使遮罩4位于涂覆位置的状态下,以CCD摄像机拍摄基板1之槽11的光学像I11,将显示其槽11的图像资料暂时储存在控制部之记忆体。然后,根据该等之图像资料使涂覆轨迹CL及槽11一致,而定位基板1。接着实行涂覆处理。
申请公布号 TW200408309 申请公布日期 2004.05.16
申请号 TW092116051 申请日期 2003.06.13
申请人 大网版制造股份有限公司 发明人 增市干雄;高村幸宏;森三造
分类号 H05B33/10 主分类号 H05B33/10
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本