发明名称 |
光电探测器校准装置及其校准方法 |
摘要 |
一种光电探测器校准装置及其校准方法,包括分光棱镜,位于光电探测器上方,所述光电探测器位于工件台上,照明光通过所述分光棱镜分为第一测量光和第二测量光;绝对探测器,位于所述分光棱镜一侧,第二测量光入射到所述绝对探测器,第一测量光入射到光电探测器;处理单元,用于对所述绝对探测器测得的第二测量光光强和所述光电探测器测得的第一测量光光强进行计算,建立所述光电探测器和所述绝对探测器的关系,校准所述光电探测器的增益和偏置。本装置及方法操作简单、减小人为因素对光刻机内部的环境污染,提高测试准确性;绝对探测器和校准探测器测量的光为同一束光,避免了由于光源的波动性出现透过率变化的情况,从而提高了测量准确性。 |
申请公布号 |
CN102890423A |
申请公布日期 |
2013.01.23 |
申请号 |
CN201110204041.9 |
申请日期 |
2011.07.20 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
宋平;马明英 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G01J1/42(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京连和连知识产权代理有限公司 11278 |
代理人 |
王光辉 |
主权项 |
一种光电探测器校准装置,其特征在于,包括分光棱镜,位于所述光电探测器上方,所述光电探测器位于工件台上,照明光通过所述分光棱镜分为第一测量光和第二测量光;绝对探测器,位于所述分光棱镜一侧,所述第二测量光入射到所述绝对探测器,所述第一测量光入射到所述光电探测器;以及处理单元,用于对所述绝对探测器测得的第二测量光光强和所述光电探测器测得的第一测量光光强进行计算,建立所述光电探测器和所述绝对探测器的关系,校准所述光电探测器的增益和偏置。 |
地址 |
201203 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号 |