发明名称 |
用于确定材料的平均原子序数和质量的方法和系统 |
摘要 |
本发明涉及用于确定材料的平均原子序数和质量的方法和系统。这里公开了一种针对潜在威胁扫描目标的方法和系统,其利用自目标散射的光子的能量谱确定目标中平均原子序数和/或质量的空间分布。示范的方法包含:利用光子束照亮目标的多个体元的每一个;确定入射到每个体元上的入射通量;测量自体元散射的光子的能量谱;利用能量谱确定体元中的平均原子序数;以及利用入射通量、体元中材料的平均原子序数、能量谱、以及与体元对应的散射核确定体元中的质量。示范的系统可基于若干体元的平均原子序数和/或质量利用威胁检测试探法来确定是否触发进一步的动作。 |
申请公布号 |
CN102890095A |
申请公布日期 |
2013.01.23 |
申请号 |
CN201210333501.2 |
申请日期 |
2005.07.08 |
申请人 |
护照系统公司 |
发明人 |
R.J.勒杜瓦;W.伯托兹 |
分类号 |
G01N23/04(2006.01)I;G01N23/201(2006.01)I |
主分类号 |
G01N23/04(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
杨思捷 |
主权项 |
一种用于分析目标的体元中的材料的方法,所述方法包含:利用光子束照射所述体元;确定所述体元上的入射通量;测量自所述体元散射的光子的至少一个能量谱;利用所述至少一个能量谱确定所述体元中的平均原子序数;利用所述入射通量、所述体元中的所述材料的平均原子序数、所述至少一个能量谱、以及与所述体元相对应的散射核的预定值确定所述体元中的质量;以及基于所确定的质量生成信号。 |
地址 |
美国麻萨诸塞州 |