使用磁场集中器的具有金属喷淋头的电感应式等离子体源

摘要

本发明提供用于基板的等离子体处理的方法与装置。处理腔室具有基板支撑件与面向该基板支撑件的盖组件。该盖组件具有包括电感应线圈的等离子体源，该电感应线圈被配置于导电平板内，该导电平板可包括被嵌套的导电环。该电感应线圈与导电平板实质上共平面，并由绝缘体与导电平板绝缘，该绝缘体适配于通道内，该通道形成于导电平板中，或嵌套于导电环内。于电感应线圈周围提供场集中器，并且该场集中器由隔离器与电感应线圈绝缘。该等离子体源由导电支撑板支撑。气体分配器将气体从穿过导电平板配置的导管，经由穿过支撑平板与等离子体源的中心开孔，而供应至该腔室。

主权项

一种用于等离子体腔室的盖组件，该盖组件包括：第一环形电感应线圈，该第一环形电感应线圈与第一导电环嵌套在一起。