| 主权项 |
1.一纯水添加装置,其包括: 一洁净乾气体输入管道及一纯水输入管道,该洁净 乾气体输入管道及一纯水输入管道之开合分别由 位于其上之计时控制器控制;其中,该纯水输入管 道一部分经过一加热器加热。 2.如申请专利范围第1项所述之纯水添加装置,其中 该洁净乾气体输入管道与该纯水输入管道滙合于 一主管道。 3.一蚀刻系统,其包括一反应腔、一承装箱及一纯 水添加装置,该反应腔与该承装箱相连,该纯水添 加装置包括:一洁净乾气体输入管道及一纯水输入 管道,该洁净乾气体输入管道与该纯水输入管道均 与反应腔相连;该洁净乾气体输入管道及一纯水输 入管道之开合分别由位于其上之计时控制器控制; 其中,该纯水输入管道一部分经过一加热器加热。 4.如申请专利范围第3项所述之蚀刻系统,其中该洁 净乾气体输入管道与该纯水输入管道滙合于一主 管道。 5.如申请专利范围第3项所述之蚀刻系统,其中该加 热器置于该承装箱内。 6.如申请专利范围第3项所述之蚀刻系统,其中该加 热器置于该承装箱外部周围。 7.如申请专利范围第3项所述之蚀刻系统,其中该承 装箱内承装蚀刻用之液态化学药品。 8.如申请专利范围第7项所述之蚀刻系统,其中该液 态化学药品为草酸。 图式简单说明: 第一图为先前技术蚀刻系统之平面示意图。 第二图为另一先前技术蚀刻系统之平面示意图。 第三图为本发明蚀刻系统第一实施方式之平面示 意图。 第四图为本发明蚀刻系统第二实施方式之平面示 意图。 |
